智財權修法/專利法優惠期修正條文於 1 月 18 日總統令公布

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立法院於105年12月30日三讀通過專利法部分條文修正草案,本次修法鬆綁優惠期相關要件,擴大申請前公開之人獲得專利保護之可能性,有利於創新及技術的流通。新修正條文經總統於106年1月18日公布,其施行日期將由行政院另行訂定。

本次專利法部分條文修法重點如下:

一、延長優惠期期間並鬆綁公開事由

為因應我國企業及學術機構因商業或學術活動,在提出發 明申請案前即以多元型態公開其發明,及為保障其就已公開之發明仍有獲得專利權保護之可能,並有充分時間準備專利申請案,因此,將現行優惠期期間6個月延長為12個月,且不限制申請人公開該發明之態樣,凡出於申請人本意或非本意的公開皆得適用優惠期之規定,以鼓勵技術之公開與流通。

二、明定專利公報之公開不適用優惠期規定

專利公報公開之目的在於避免他人重複投入研發經費,或使公眾明確知悉專利權範圍,與優惠期之主要意旨在於使申請人得以避免因其申請前例外不喪失新穎性及進步性之公開行為而致無法取得專利保護者,在規範行為及制度目的上均不相同,因此,明定不適用之。

三、刪除專利申請人須於申請時同時主張優惠期之規定

現行專利法規定,專利申請人欲主張優惠期,須於申請時敘明其事實及其年、月、日,並應於專利專責機關指定期間內檢附證明文件。茲為避免申請人因疏於主張而喪失優惠期之利益,及充分落實鼓勵創新並促進技術及早流通之目的,刪除「必須同時主張」之規定,以保障申請人權益。